Технология плоских мембран из карбида кремния относится к категории погружной ультрафильтрации. Его основное применение заключается в непосредственном погружении плоского мембранного модуля из карбида кремния в резервуар для сырой воды или сточных вод, подлежащих очистке. Под действием внешней энергии (обычно отрицательного давления, создаваемого насосом или сифоном для пермеата) вода и частицы размером меньше пор мембраны проникают через слой мембраны, в то время как частицы большего размера, чем поры, удерживаются, таким образом обеспечивая разделение твердой-жидкости.
Процессы ультрафильтрационной очистки делятся на физическую очистку и химическую очистку. Физическая очистка включает процессы обратной промывки, распыления и аэрации. При обратной промывке используется обратный поток воды (входящий со стороны пермеата мембранного модуля и проникающий через поры мембраны) для удаления глубоко-и поверхностных загрязнений из пор мембраны. В процессах распыления и аэрации используется гидравлическое воздействие или газовое возмущение, способствующее удалению примесей, прилипших к поверхности мембраны. В химической очистке используются химические агенты для удаления коллоидов, органических веществ, неорганических солей и других загрязнений, образующихся на ультрафильтрационной мембране и внутри нее, включая химическую поддерживающую очистку (CEB) и химическую восстановительную очистку (CIP).
01 Режимы работы системы плоских мембран из керамики из карбида кремния
Режимы работы системы ультрафильтрации с плосколистовой мембраной из карбида кремния следующие:

Процесс мембранной фильтрации включает в себя следующие этапы:
Продуктовая вода. На этапе полученной воды удаляются такие загрязнения, как оксиды металлов, взвешенные твердые вещества и бактерии;
Обратная промывка: необходима периодическая обратная промывка для удаления слоя фильтрационной корки с поверхности мембраны;
Распыление: вода распыляется непосредственно на верхнюю часть фильтрующей башни, что повышает эффективность обратной промывки и очистки;
Аэрация: воздух поступает снизу фильтрующей башни, улучшая процесс обратной промывки и очистки;
Химическая циркуляция: удаляет загрязнения или накипь с внутренней стороны мембранных листов;
Химическая очистка: удаляет загрязнения и накипь с внешней стороны мембраны.
02 Процесс работы керамической плосколистовой мембранной системы из карбида кремния
1. Закачка воды и вентиляция воздуха
Откройте верхний воздуховыпускной клапан и впускной клапан, чтобы ввести сырую воду в мембранный резервуар и удалить воздух из системы.
Время запуска: Система запускается в первый раз или после того, как из системы плоских пластинчатых мембран из карбидокремниевой керамики была опорожнена жидкость.

2. Фильтрация
При фильтрации используется насос для создания отрицательного давления (вакуума) внутри мембраны. Эта разница давлений заставляет молекулы воды проходить через мембрану, позволяя очищенной воде вытекать со стороны пермеата, в то время как загрязнения остаются.

3. Физическая очистка
Физическая очистка состоит из двух этапов. На первом этапе используются насосы обратной промывки и аэрационные устройства для обратной промывки и аэрации, чтобы устранить влияние слоя фильтрационной корки на производительность мембранной системы. Второй этап, выполняемый перед химической очисткой, включает опорожнение мембранного бака и использование процесса распылительной очистки в сочетании с обратной промывкой и аэрацией для тщательной физической очистки мембранных элементов, создавая благоприятные условия для химической очистки.
① Обратная промывка и аэрация

② Опорожнение и аэрация мембранного резервуара

③ Распыление, обратная промывка, аэрация и опорожнение.

4. Химическая очистка
Химическая очистка подразделяется на химическую профилактическую очистку (CEB) и химическую очистку на месте (CIP).
① Химическая профилактическая очистка (CEB)
Химическая поддерживающая очистка (CEB) предполагает добавление химикатов в воду обратной промывки для улучшения очищающего эффекта.

② Химическая очистка-на месте (CIP)
Если вышеуказанные методы очистки не позволяют восстановить флюс или давление пермеата достигает значения очистки CIP (-40 кПа), необходимо начать химическую очистку на месте (CIP). Этот процесс включает погружение плоского мембранного модуля из карбида кремния в химическое чистящее средство для полного растворения и удаления стойких загрязнений с поверхности и пор мембраны, тем самым восстанавливая эксплуатационные характеристики мембраны.

03 Часто используемые чистящие средства и требования к качеству чистящей воды для плоских листовых керамических мембран из карбида кремния
①Обычно используемые чистящие средства
В следующей таблице перечислены часто используемые химические чистящие средства:
|
Тип агента |
Часто используемый агент |
|
Окислитель |
Гипохлорит натрия (NaOCl) |
|
Щелочной агент |
Гидроксид натрия (NaOH) |
|
Кислотный агент |
Соляная кислота (HCl)/цитрат |
Примечание. Дозировки конкретных агентов могут быть скорректированы в соответствии с фактическими условиями на месте.
② Требования к качеству очищающей воды
Очищающая вода, используемая для растворения чистящих химикатов, может представлять собой пермеат УФ, чистую воду или другие относительно чистые источники воды. Должны быть соблюдены следующие условия:
|
Элемент |
Параметр |
|
Общая твердость |
<80ppm (carbonate content) |
|
Индекс окрашивания (SDI) |
<3 |
|
Всего органических веществ |
<8ppm |
|
Ионы железа |
<0.5ppm |
|
Ионы кремния |
<5ppm |
Примечание. Конкретные условия эксплуатации и качество промывочной воды можно регулировать в соответствии с фактическими условиями на объекте.
